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Treatment and Recovery of Ammonium Chloride by Air Stripping and Acid Washing Technology from the Electroplating Wastewater
No full text指導教授 賴進興本研究主要是利用氣提及酸洗對電鍍含銨(NH4+)廢水之去除以及回收，研究內容分成四個部份，第一部分利用實驗室燒杯試驗，確認參數及方法可行性，第二部分進行小型模廠氨氮氣提及回收試驗，第三部分進行大型模廠氨氮氣提及回收試驗，且針對以上實驗的NH4+濃度探討氣提設備之去除率及酸洗設備之回收效率，最後計算不同設備及參數下之一階反應回歸分析，並運用一階反應回歸分析所計算出之速率常數(k)和截距(k?)，模擬氨氮在不同時間下的濃度，再評估氣提技術處理含NH4+廢水與酸洗回收氯化銨之可行性。研究結果顯示︰第一部分運用0.8 L/min、1.6 L/min、3.5 L/min三種曝氣量和增加攪拌還有添加消泡劑的操作條件，進行實驗室燒杯試驗，其曝氣量增加能提升NH4+氣提效率，但是必須使曝氣量增加至相當量以上，而增加攪拌對於NH4+氣提效率是有影響的，能像空氣擴散器般加速氣提的效率，提高NH3質傳速率，還有添加消泡劑能消除廢水經曝氣而浮在水面的泡沫，進而有效提升廢水中NH4+去除速率；第二部分運用經混凝處理後之廢水進行小型模廠試驗，結果顯示經混凝處理之廢水對於NH4+氣提效率，應無明顯影響；第三部分運用1,000 L/min、1,500 L/min兩種曝氣量和0.0 cm、25.3 cm、54.0 cm三種曝氣高度以及添加消泡劑的操作條件，進行大型模廠試驗，結果顯示提高曝氣量能提升NH4+氣提效率，此結果與燒杯試驗結果一致，而不同曝氣高度的部分，曝氣高度設計為54.0 cm 之試驗，NH4+氣提效率明顯高於其他兩曝種氣高度，因此提高曝氣高度能增加NH4+氣提效率，最後添加消泡劑的條件NH4+去除速率明顯提升，因此添加消泡劑能有效提升廢水中NH4+去除速率，酸洗回收的部分大型模廠循環回收氯化銨試驗為連續不斷回收之試驗，因此當循環液NH4+濃度達到97,000-110,000 mg/L時，溶液此時已達到過飽和狀態，NH4+濃度就會逐漸下降至約80,000 mg/L甚至更低濃度，隨後再漸漸上升而這個過程會使回收槽底部產生許多晶漿；最後第四部份，燒杯試驗結果數據經由一階反應回歸分析所計算R2為0.87~0.97，說明此反應能以一階反應回歸分析描述，其中曝氣量增加至相當量以上和增加攪拌還有添加消泡劑能提升k值；小型模廠試驗結果數據經由一階反應回歸分析所計算R2為0.70~0.95，說明此反應能以一階反應回歸分析描述，而經混凝處理比無經混凝處理的斜率k有明顯增加；大型模廠試驗結果數據經由一階反應回歸分析所計算R2為0.94~0.99，說明此反應能以一階反應回歸分析描述，其中提高曝氣量和提高曝氣高度還有添加消泡劑k值有明顯增加，而以上濃度模擬以有截距之參數計算，能更貼近實驗濃度
Treatment of Anaerobic, Aerobic and Membrane Units on the Wastewater Containing High Organic Matter Concentration for a Semiconductor Industry
No full text指導教授 賴進興本論文選定半導體科技廠之有機廢水處理系統作為研究對象，該廢水處理廠擁有去氮、除磷之活性污泥系統結合薄膜生物反應 (Membrane Bioreactor, MBR) 系統，在活性污泥系統與 MBR 系統控制下，進行研究試驗。研究內容以AOAO (厭氧、好氧) 及全好氧生物系統處理高濃度有機廢水 (含二甲基亞?、四甲基氫氧化銨等) 時，對廢水處理系統造成之負荷及其去除效能進行探討，探討參數及效能評估包含高濃度有機廢水添加量、MBR 系統之混合液懸浮固體 ( MLSS) 變化及水中化學需氧量 (Chemical Oxygen Demand, COD) 濃度之去除率。AOAO-MBR 系統添加高濃度有機廢水量每天日約1.3 m3，投入系統後MLSS 濃度約 9,000-10,000 mg/L，COD去除率維持在 89%~93%， COD 平均去除率為 91%，未達到設定之 COD 去除率目標值 98%；而全好氧- MBR 系統添加高濃度有機廢水量每日約為 2.016 m3，投入系統後 MLSS 濃度約 6,000-9,000 mg/L，但COD 去除率穩定維持於 98%之去除率。實驗結果證明全好氧-MBR 系統較AOAO-MBR 系統適合添加高濃度有機廢水，依照探討結論得知，實驗場域有機廢水處理系統添加高濃度有機水後，生物系統運作及放流水 COD 去除率仍然維持穩定且符合放流水標準。依據本研究結果顯示，該半導體科技廠以全好氧-MBR 廢水處理系統，每月可以穩定處理廠內產出約60 m3之高濃度有機廢水
