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Preparation and Crystal Structure of [(Me3SiCH2)2InP(H)Ad]2
No full textDie Reaktion von (Me3SiCH2)3 In mit AdPH2 (Ad = Adamantyl) führt in Gegenwart katalytischer Mengen AgNO3 unter Abspaltung von Tetramethylsilan in 30% Ausbeute zu [(Me3SiCH2)2InP(H)Ad]2 1. Die Kristallstruktur von 1 wird diskutiert. Translated Abstract: Reaction of (Me3SiCH2)3 In with AdPH2 (Ad = adamantyl) in the presence of AgNO3 leads to [(Me3SiCH2)2InP(H)Ad]2 1 in 30% yield. The crystal structure of 1 is discussed
Epitaktisches Wachstum von GaN Quantenpunken auf glattem AlN
No full textA fundamental limitation of current quantum dot based monolithic quantum-devices emitting single or entangled photons is the operation at cryogenic temperatures. A straightforward solution is the use of group-III nitrides. In particular, the large bandgap difference between the two binary compounds GaN and AlN of 2.6 eV can provide superior exciton confinement for an energy separation between distinct eigenstates larger than 25 meV, which is required for room temperature operation. In fact, single photon emission from GaN quantum dots has been demonstrated up to 350 K. Despite the very promising optical properties, growing GaN quantum dots on AlN by metalorganic vapor-phase epitaxy is still very challenging. Two major reasons are the need of smooth AlN substrates for a homogenous GaN nucleation, and the lattice mismatch between GaN and AlN of 2.4%. The latter is similar to the required minimum lattice mismatch of about 2.5% for Stranski-Krastanow quantum dot growth.
This thesis aims at establishing GaN quantum dot growth on AlN buffer layers by metalorganic vapor-phase epitaxy within an in-depth study of homoepitaxial and heteroepitaxial growth processes. In order to address this in a comprehensive manner, fundamental physics are illustrated in theoretical models and compared with extensive growth studies. Additionally, optical properties of GaN quantum dots are presented to demonstrate the feasibility for optical applications. The manuscript is divided into three major parts.
In the first part, the homoepitaxial growth transition between common step-bunching growth and desired step-flow growth is studied for AlN. A surface diffusion model is presented and examined via a novel Monte-Carlo approach, which shows an extended growth window for the favored step-flow growth by increasing the vicinal terrace width of the substrate (small offcut angles). The results are experimentally applied to pseudo-homoepitaxial AlN growth on (0001) AlN templates with different growth conditions and offcut angles. A change of the surface termination is observed within the presented parameter window yielding step-flow growth under high V /III > 11 and step-bunching growth under low V/III < 11. Additionally, small offcut angles maintain step-flow growth essential for homogenous GaN quantum dot nucleation.
In the second part, the influence of a growth interruption on the quantum dot formation is investigated. After the two-dimensional GaN growth under a high V/III = 1200, a morphology transition occurs during the growth interruption without ammonia present. This process is governed by material desorption yielding flat GaN quantum dots with very low aspect ratios < 0.1. Capped samples exhibit typical optical properties of flat elongated GaN quantum dots, like excitons with a fine-structure splitting of about (7.5 ± 1.0) meV.
In the third part, the influence of the surface energy on the heteroepitaxial growth transition between two-dimensional Frank-van-der-Merve growth and three-dimensional Stranski-Krastanow growth is studied for GaN on AlN. A qualitative growth model is presented and the influence of the surface energy is discussed yielding two-dimensional growth for high surface energies and three-dimensional growth for low surface energies. During growth, the surface energy can be controlled via the V/III ratio yielding two-dimensional growth for high V/III ≥ 300 and three-dimensional growth for low V/III ≤ 150. A detailed investigation of the achieved Stranski-Krastanow quantum dots yield a characteristic wetting layer thickness of (2.5 ± 1) ML and a truncated pyramidal shape with {10-13} side facets. Capped samples exhibit typical optical properties of Stranski-Krastanow GaN quantum dots, like excitons and biexcitons with binding-energies of (12 ± 9) meV.Aktuelle Quanten-Bauelemente mit Quantenpunkten in der aktiven Zone besitzen auf Grund der verwendeten Materialsysteme eine eingeschränkte Betriebstemperatur bei flüssigem Stickstoff oder niedriger. Eine naheliegende Lösung bietet die Verwendung von Gruppe-III-Nitriden. Insbesondere der große Bandlückenunterschied der beiden binären Verbindungen GaN und AlN von 2.6 eV ermöglicht einen sehr großen Exzitoneneinschluss. In nulldimensionalen Strukturen kann somit die Separation individueller exzitonischer Eigenzustände mehr als 25 meV betragen. Dies ist eine wesentliche Voraussetzung für Anwendungen bei Raumtemperatur. In der Tat wurde die Emission einzelner Photonen auch schon bis Temperaturen von 350 K berichtet. Trotz dieser vielversprechenden optischen Eigenschaften ist jedoch das kontrollierte Wachstum von GaN-Quantenpunkten mit Hilfe der metallorganischen Gasphasenepitaxie nach wie vor eine große Herausforderung. Hierbei sind zwei wesentliche Gründe identifizierbar. Zum einen werden glatte AlN-Oberflächen mit Stufenflusswachstum benötigt. Zum anderen entspricht die Gitterfehlanpassung zwischen GaN und AlN mit 2.4% genau der minimalen Gitterfehlanpassung des Stranski-Krastanow Wachstums von 2.5%.
Ziel der vorliegenden Arbeit ist es, GaN-Quantenpunkte auf AlN-Oberflächen epitaktisch abzuscheiden und dabei das homoepitaktische und heteroepitaktische Wachstum ausführlich zu untersuchen. Zuerst werden grundlegende physikalische Zusammenhänge mit theoretischen Modellen diskutiert und anschließend mit gezielten Wachstumsstudien verglichen. Exemplarisch werden auch optische Eigenschaften von GaN-Quantenpunkten präsentiert als Nachweis für die Anwendbarkeit in optoelektronischen Bauelementen. Die Arbeit ist in drei Teile untergliedert.
Im ersten Teil werden im Rahmen einer homoepitaktischen Wachstumsuntersuchung zwischen Stufenfluss- und Stufenbündelwachstum glatte AlN-Oberflächen erzeugt. Hierfür wird zunächst der Übergang theoretisch mit Hilfe eines gängigen Modells durch Adatom-Diffusion beschrieben. Zur besseren Interpretation werden Oberflächen durch Monte-Carlo-Simulationen erzeugt und analysiert. Diese gewonnenen Ergebnisse werden auf das pseudo-homoepitaktische Wachstum von AlN angewendet. Hierbei konnte innerhalb des Wachstumsfensters ein Übergang der Oberflächenterminierung beobachtet werden, welcher Stufenbündel bei geringem V/III 11 begünstigt. Unabhängig vom V/III-Verhältnis konnten glatte Oberflächen für kleine Fehlschnitte realisiert werden.
Im zweiten Teil konnten flache GaN-Quantenpunkte mit einem sehr geringem Aspektverhältnis von < 0.1 erzeugt werden. Hierfür wird eine zweidimensional gewachsene GaN-Schicht durch eine Wachstumsunterbrechung in dreidimensionale Strukturen überführt, wobei vorrangig Materialdesorption identifiziert werden konnte. Optische Strukturen zeigen typische exzitonische Lumineszenzen von flachen elongierten GaN-Quantenpunkten.
Im dritten Teil der Arbeit konnten Stranski-Krastanow-GaN-Quantenpunkte erzeugt werden. Hierfür wird zunächst der Einfluss der Oberflächenenergie auf den heteroepitaktische Übergang zwischen zweidimensionalem Frank-van-der-Merve Wachstum und dreidimensionalem Stranski-Krastanow Wachstum an Hand eines qualitativen Modells erklärt. Die geringe Oberflächenenergie, welche für Stranski-Krastanow-GaN-Quantenpunkte benötigt wird, konnte experimentell bei einem V/III ≤ 150 eingestellt werden. Eine detaillierte Analyse der Stranski-Krastanow-Quantenpunkte hat eine charakteristische Benetzungsschichtdicke von (2.5 ± 1) ML und pyramidenstumpfförmige Quantenpunke mit {10-13}-Seidenfacetten ergeben. Optische Strukturen zeigen typische exzitonische Lumineszenzen von Stranski-Krastanow-GaN-Quantenpunkten
Strain analysis of stressed nanophotonic devices by dark-field electron holography
No full textDie Dunkelfeldelektronenholographie (DFEH) ist eine Methode der Transmissionselektronenmikroskopie (TEM) zur zweidimensionalen Analyse von Verzerrungen in Kristallen mit ≈ 1 μm breiten Gesichtsfeldern. Durch die Interferenz einer Objektwelle, die durch den gestörten Kristall transmittiert, und einer Referenzwelle des ungestörten Kristall kann in der Phase die Verschiebung der Gitter zueinander aufgenommen und die Verzerrung ermittelt werden.
Mit TEM und DFEH wird eine Idee zur Realisierung von Einzelphotonenemittern untersucht: Das verzerrungsinduzierte Wachstum von Quantenpunkten (QP) durch eine selektiv oxidierte AlAs/GaAs-Stressorstruktur einer Mesa zu realisieren. Diese verzerrten Mesen werden zunächst in ihrer Struktur analysiert. Die Phase des oxidierten AlAs kann als γ-Al₂O₃ mit 5–16 nm großen Nanokristalliten ermittelt werden. Die Verzerrungsanalyse erfolgt sowohl an einer linearen Mesa mit einer weiten Apertur, als auch einer runden Mesa mit einer kleinen Apertur. In der linearen Mesa kann direkt über der Aperturkante in Schichtrichtung eine tensile Verzerrung von (0,30 ± 0,15) % in Höhe der QP-Schicht und von (0,40±0,15) % an der Oberfläche nachgewiesen werden. Die Analyse der runden Mesa zeigt in Schichtrichtung eine tensile Verzerrung von (0,18 ± 0,06) % in Höhe der QP-Schicht und (0,60 ± 0,06) % an der Oberfläche der Mesa. Der Aperturdurchmesser beeinflusst dabei die Lage des tensilen Maximums. Diese Verzerrungsanalyse wird anschließend mit Simulationen, basierend auf linearer Elastizitätstheorie, verglichen und zeigt eine gute qualitative und quantitative Übereinstimmung.
Die Messungen werden mit {111}-, {400}- und {200}-Reflexen an verschiedenen Tagen durchgeführt, um Einflüsse der Abbildungsbedingungen auf die DFEH-Methode zu untersuchen. Abbildungs- und Anregungsfehler sowie eine Nachoxidation der TEM-Lamelle werden als mögliche Ursachen für die auftretenden Abweichungen zwischen den Messungen diskutiert. Außerdem zeigen die Simulationsrechnungen bei Berücksichtigung der dynamischer Beugungstheorie einen starken Einfluss der Wahl der Reflexe sowie der Probendicke der TEM-Lamelle auf die Messung. Je geringer die Extinktionslänge eines Reflexes ist, desto empfindlicher ist die Messung auf Verzerrungen, die in der Tiefe variieren. Die gewählte Probendicke von (275 ± 5) nm erweist sich dabei für die Verzerrungsanalyse mit den {400}-Reflexen als ideal.Dark-field electron holography (DFEH) is a method to investigate two-dimensional strain in crystals in a transmission electron microscope (TEM) with a field of view of ≈ 1 μm width. The interference of an object wave, transmitted through a strained crystal, and a reference wave of an unstrained crystal allows to image the displacement of the lattice in the phase and therefore to investigate the strain.
Selective oxidized AlAs/GaAs-stressor structures are investigated by TEM and DFEH. Such structures are one approach to realize single photon emitters by strain induced quantum dot (QD) growth. The structures of the strained mesas are analyzed. The phase of the oxidized AlAs can be determined as γ-Al₂O₃ with 5–16 nm nanocrystals. The strain states of a linear mesa with a wide aperture opening and of a circular mesa with a small aperture are investigated. Above the aperture egde of the linear mesa a lateral tensile strain of (0.30 ± 0.15) % is measured in the height of the QD layer and of (0.40 ± 0.15) % at the surface of the mesa. The analysis of the circular mesa shows a lateral tensile strain of (0.18 ± 0.06) % in the QD layer and of (0.60 ± 0.06) % at the surface of the mesa at the center of the aperture. The measured strain is compared to simulation based on linear elasticity theory and a good qualitative and quantitative agreement is found.
The strain measurements are performed with {111}-, {200}- and {400}-reflections on several days, to investigate possible influences of imaging conditions on the DFEH method. Excitation errors, aberrations or even post-oxidation of the TEM-lamella are discussed as possible causes of the detected deviations between the different measurements. Simulations taking into account the dynamical diffraction show a strong influence of the selected reflections and specimen thickness on the strain measurements. The smaller the extinction distance of the reflections are, the more sensitive the measurements are to strain variations along the depth of the specimen. The chosen specimen thickness of (275 ± 6) nm turns out to be very suitable for the strain measurements using {400}-reflections
Die Zusammenarbeit der deutschen und polnischen Historiker nach 1945. Das Beispiel der Krzyżacy
No full textVortrag zum 10-jährigen Jubiläum der polnischen Geschichtsmission an der Julius-Maximilian-Universität Würzburg (16. September 2019). Der Autor griff das Thema der Zusammenarbeit zwischen polnischen und deutschen Historikern nach dem Zweiten Weltkrieg auf. Autorin der Zusammenfassung: Renata SkowrońskaCooperation of German and Polish Historians after 1945: An Example of the Teutonic Knights (Krzyżacy)Lecture delivered during the 10th anniversary of the Polish Historical Mission at the Julius Maximilian University of Würzburg (September 16, 2019). The author addressed the topic of cooperation between Polish and German historians after World War II. Translated by Agnieszka ChabrosWspółpraca historyków niemieckich i polskich po 1945 roku. Przykład KrzyżakówWykład wygłoszony podczas jubileuszu 10-lecia działalności Polskiej Misji Historycznej przy Uniwersytecie Juliusza i Maksymiliana w Würzburgu (16 września 2019 roku). Autor analizował w nim temat podjęcia współpracy między polskimi i niemieckimi historykami po II wojnie światowej. Autorka streszczenia: Renata Skowrońsk
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