1,721,048 research outputs found
Going Beyond Counting First Authors in Author Co-citation Analysis
Get PDFThe present study examines one of the fundamental aspects of author co-citation analysis (ACA) - the way co-citation
counts are defined. Co-citation counting provides the data on which all subsequent statistical analyses and mappings
are based, and we compare ACA results based on two different types of co-citation counting - the traditional type that
only counts the first one among a cited work's authors on the one hand and a non-traditional type that takes into
account the first 5 authors of a cited work on the other hand. Results indicate that the picture produced through this non-traditional author co-citation counting contains more coherent author groups and is therefore considerably clearer. However, this picture represents fewer specialties in the research field being studied than that produced through the traditional first-author co-citation counting when the same number of top-ranked authors is selected and analyzed. Reasons for these effects are discussed
Variations on the Author
Get PDF“Variations on the Author” discusses two of Eduardo Coutinho’s recent films (Um Dia na Vida, from 2010, and Últimas Conversas, posthumously released in 2015) and their contribution to the general question of documentary authorship. The director’s filmography is characterized by a consistent yet self-effacing form of authorial self-inscription: Coutinho often features as an interviewer that rather than express opinions propels discourses; an interviewer that is good at listening. This mode of self-inscription characterizes him as an author who is not expressive but who is nonetheless markedly present on the screen. In Um Dia na Vida, however, Coutinho is completely absent form the image, while Últimas Conversas, on the contrary, includes a confessional prologue that moves the director from the margins to the center of his films. This article examines the ways in which these works stand out in the filmography of a director who offers new insights into the notion of cinematic authorship
Appropriate Similarity Measures for Author Cocitation Analysis
Get PDFWe provide a number of new insights into the methodological discussion about author cocitation analysis. We first argue that the use of the Pearson correlation for measuring the similarity between authors’ cocitation profiles is not very satisfactory. We then discuss what kind of similarity measures may be used as an alternative to the Pearson correlation. We consider three similarity measures in particular. One is the well-known cosine. The other two similarity measures have not been used before in the bibliometric literature. Finally, we show by means of an example that our findings have a high practical relevance.information science;Pearson correlation;cosine;similarity measure;author cocitation analysis
Modeling and design of a physical vapor deposition process assisted by thermal plasma (PS-PVD)
No full textLe procédé de dépôt physique en phase vapeur assisté par plasma thermique (PS-PVD) consiste à évaporer le matériau sous forme de poudre à l’aide d’un jet de plasma d’arc soufflé pour produire des dépôts de structures variées obtenus par condensation de la vapeur et/ou dépôt des nano-agrégats. Dans le procédé de PS-PVD classique, l’intégralité du traitement du matériau est réalisée dans une enceinte sous faible pression, ce qui limite les phénomènes d’évaporation ou nécessite d’utiliser des torches de puissance importante. Dans ce travail, initié par D. Ivchenko (2018), une extension du procédé de PS-PVD conventionnel à un procédé à deux enceintes est proposée puis explorée par voie de modélisation et de simulation numérique : la poudre est évaporée dans une enceinte haute pression (105 Pa) reliée par une tuyère de détente à une enceinte de dépôt basse pression (100 ou 1 000 Pa), permettant une évaporation énergétiquement plus efficace de poudre de Zircone Yttriée de granulométrie élevée, tout en utilisant des torches de puissance raisonnable. Ces travaux se sont focalisés sur l'optimisation de l'évaporation de la poudre par un modèle validé. A l'issu d'une bibliographie approfondie, un modèle du traitement thermocinétique des particules par l'écoulement plasma, a été sélectionné par comparaison avec les résultats expérimentaux. L’exploitation de ce modèle dans des simulations de la chambre haute pression a permis d’optimiser l’évaporation de la poudre et d’étudier différentes configurations géométriques qui permettaient de séparer le flux de vapeur des particules non totalement évaporées, et ce, afin d’éviter le colmatage de la tuyère.The process of plasma spray-physical vapor deposition (PS-PVD) consists in evaporating the material in powder form using a DC plasma jet to produce coatings by condensation or deposition of nanoaggregates. In the conventional PS-PVD process, all the material treatment takes place in a medium-vacuum atmosphere, which limits the evaporation and requires the use of high-power torches. In this work, an extension of the conventional PSPVD process to a two-chamber process is proposed and then explored by means of numerical modeling and simulation. The powder is evaporated in a high-pressure chamber (10⁵ Pa) connected by an expansion nozzle to a low-pressure deposition chamber (100 or 1 000 Pa), enabling more energy-efficient evaporation of YSZ powder of high particle-size, while using torches of reasonable power. The operating conditions favoring the evaporation of the powders were obtained from experiments. A discrete-phase model, which takes in account the powder-plasma interactions, was selected with respect to the experimental results. This model allowed to i) optimize the evaporation of the powder and ii) study different geometry configurations in order separate the flow of vapor from the not fully evaporated particles and avoid nozzle clogging
TiO2 mesoporous thin films deposited by atmospheric pressure PECVD towards photovoltaic applications
No full textUn système de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma doté d’une torche à injection axiale (TIA) a été choisi pour l’élaboration des films de TiO2. Un mode de dépôt dynamique, i.e. en déplaçant le substrat face au plasma, a été mis en place dans l’objectif de recouvrir des surface de l’ordre du centimètre carré. En vue d’utiliser les films de TiO2 en tant que couche active au sein de DSSCs, une structure mésoporeuse colonnaire et cristallisée sous forme anatase doit être idéalement obtenue. L’analyse du plasma, sans et avec le précurseur du titane, par spectroscopie d’émission optique a permis de mettre en évidence les flux de chaleur importants pouvant être transférés au substrat par le jet de plasma, avec des températures de gaz comprises entre 3000 et 4000 K, de 5 à 15 mm au-dessus de la buse. L’évaluation des densités relatives d’espèces atomiques et notamment de l’azote, de l’oxygène et du titane, combinée à l’étude de l’influence des conditions opératoires sur la microstructure du film a permis de mettre en évidence différents mode de croissance des couches de TiO2. Grâce à ces observations, un diagramme de microstructure de la couche de TiO2 déposée sur un substrat en silicium a été construit pour prédire plus facilement la morphologie et le caractère cristallin des films en fonction de la puissance microonde et de la distance torche-substrat. Dans certaines conditions, il est possible d’obtenir une structure correspondant au cahier des charges de la couche active des DSSCs. Le transfert de cette microstructure sur des substrats verre/FTO, faits pour l’application photovoltaïque, a nécessité une adaptation de la puissance micro-onde et de la distance torche-substrat de travail. La microstructure obtenue a permis de valider le diagramme de microstructure établi dans ces travaux, malgré l’obtention d’une couche ne correspondant pas au cahier des charges. Finalement, la fabrication de cellules solaires pérovskite a été initiée en exploitant le dépôt de TiO2 réalisé sur substrat en silicium.An atmospheric pressure chemical vapor deposition process equipped with an axial injection torch was chosen for the TiO2 thin films synthesis. A dynamic deposition mode, i.e. moving the substrate holder in front of the plasma jet, was developed to cover a square centimeter surface. Towards the integration of the titania films as the active layer in DSSCs, a porous columnar structure crystallized under the anatase phase was required. The optical emission spectroscopy analysis of the discharge, without and with titanium precursor, provided information about the huge thermal flux transferred to the substrate by the plasma, thanks to gas temperature from 3000 to 4000 K, at distances between 5 and 15 mm from the nozzle. The atomic relative densities estimation, mainly of nitrogen, oxygen and titanium, combined with the process parameters influence on the film microstructure highlighted several growth mechanisms. From these results, a microstructure diagram was built to predict more easily the morphology and the crystallinity of the TiO2 films deposited on silicon substrates, as a function of microwave power and torch-substrate distance. Optimized conditions were found for the synthesis of thin films matching the DSSC active layer specifications. The process parameters were then adapted to replicate the microstructure on glass/FTO substrates, confirming the microstructure diagram, even though the thin film did not fulfill the requirements. Perovskite solar cells were finally made to investigate the interest of the layers developed on silicon substrates
Towards a reliable numerical model of DC plasma spray torch operation
No full textLa projection plasma est une technologie de dépôt qui utilise un jet de plasma pour accélérer, chauffer, fondre et déposer des particules de poudre sur un substrat et ainsi, élaborer un revêtement. La reproductibilité du procédé dépend en grande part des fluctuations d’enthalpie et de vitesse du jet de plasma et de l’usure des électrodes. Les torches à plasma à anode cascadée permettent une longueur d’arc stabilisée et ainsi d’atteindre le premier objectif. Cependant, leur géométrie ne garantit pas l'absence d'érosion des électrodes. L’étude des processus électromagnétiques et thermiques à l'intérieur de la torche peut aider à contrôler les propriétés du jet de plasma et à réduire l’érosion des électrodes, et en particulier de l’anode. Ce travail porte sur la simulation d’une à plasma commerciale (la torche SinplexPro™ d’Oerlikon Metco) fonctionnant à l’argon sous pression atmosphérique. Il a été mené en deux étapes. La première a consisté à développer un modèle à l’équilibre thermodynamique local (ETL) du comportement dynamique de l’arc dans la torche. La tension d’arc et les pertes thermiques de la torche prédites par ce modèle sont est en bon accord avec celles mesurées pour un faible débit de gaz et un courant électrique élevé. Pour de telles conditions de fonctionnement, le modèle prédit un pied d’arc constricté à l’anode. Le modèle ETL a ensuite été utilisé pour tester deux méthodes pour faire tourner le pied d'arc sur la paroi de l'anode: une injection du gaz en vortex et un champ magnétique externe axial. L'injection du gaz avec un angle de 45° tourbillonnaire s'est avérée plus efficace qu’avec l’angle de 25° actuellement utilisé sur ce type de torche. La seconde étape de ce travail a consisté à développer un modèle à deux températures. Ce modèle considère deux formulations pour l’enthalpie des électrons et celle des espèces lourdes, qui différent par l'attribution de l'énergie d'ionisation à l’une ou l’autre des particules. Le modèle 2T avec les deux formulations prédit un pied d’arc diffus à l’anode et des tensions d’arc en bon accord avec les valeurs expérimentales pour une large plage de courant et de débit de gaz. Le mode diffus du pied d’arc anodique semble confirmé par l’observation d’anodes usées ayant fonctionné dans les mêmes conditions. La formulation de l’équation de l’énergie avec l’énergie d’ionisation assignée aux électrons a un coût de calcul acceptable et présente des résultats plus raisonnables en termes de température des électrons et des espèces lourdes. Cette formulation sera utilisée tive pour le développement ultérieur du modèle et son extension à des gaz diatomiques.DC plasma spraying is a coating technology that utilizes the energy of a plasma flow to accelerate, heat up, melt and deposit the coating powder on a substrate. For a high reproducibility in coating production, the plasma flow should have low fluctuations of enthalpy and velocity, and the erosion of electrodes should be limited. Plasma torches with a cascaded anode yield a more stabilized arc length and could achieve the first goal. However, a stabilized arc does not guarantee a low erosion rate of electrodes and in particular anode. An insight into the electromagnetic and thermal processes inside the plasma torch could help to control the properties of the plasma flow issuing from the torch and extend the lifetime of the torch parts. This work dealt with the simulation of the commercial plasma torch SinplexPro™ manufactured by Oerlikon Metco operated in argon under atmospheric pressure. It involved two steps. The first consisted in developing a LTE model with the inclusion of the electrodes in the computational domain. The arc voltage and cooling loss predicted by this model were in good agreement with the experimental values for a low gas flow rate and high electric current. For such operation conditions, the model predicted a constricted anode arc attachment. Then, two methods were tested to rotate the constricted anode arc attachment: gas swirling injection and axial external magnetic field. The swirling gas injection was found to be more efficient for a gas injection angle of 45° than for an angle of 25°, which is the angle used in the actual plasma torch. The second step of this study was about the development of a two-temperature model. The latter considered two formulations for the enthalpy of electrons and heavy species differing in the attribution of the ionization energy to electrons or heavy species. The 2T model with both formulations projected a diffuse anode arc attachment and arc voltage that agreed with the experimental values for a wider range of arc current and gas flow rate. The mode of anode arc attachment was confirmed by the observation of tested anodes. The formulation of the energy equation with the ionization energy assigned to the electrons had an acceptable computational cost and yielded reasonable results in terms of electron and heavy species temperature. It will be used to develop further the model and apply it to diatomic gases
Study of the use of a microwave plasma torch at atmospheric pressure for the inactivation of bacteria
No full textLa Torche à Injection Axiale (TIA) a été utilisée pour inactiver des micro-organismes sans effet thermique grâce aux espèces et aux UV du plasma. Pour compléter ce procédé d’inactivation, des couches minces de TiO2 aux propriétés photocatalytiques ont été élaborées par PECVD avec cette même source. En parallèle, une analyse du plasma par spectroscopie d’émission optique et la détermination de la température de surface du substrat ont été réalisées. Le plasma a été analysé sans et avec le précurseur de titane et avec un substrat dans l’axe de la décharge pour être le plus proche possible des conditions de dépôt. Les températures d’excitation et du gaz sont respectivement comprises entre 7000 à 9500 K et 2700 à 3700 K. Ces températures importantes produisent un transfert thermique vers le substrat. Suivant les conditions opératoires, les températures de surface du substrat mesurées sont comprises entre 110 à 320 °C. Des essais d’inactivation bactérienne par plasma ont été réalisés sur gélose afin d’évaluer l’effet des paramètres opératoires de la TIA sur l’efficacité du traitement. Les températures de surface mesurées ont pu être liées au diagramme de microstructure des couches minces de TiO2. Lorsque la température de surface du substrat augmente, la proportion de la phase rutile augmente également jusqu’à atteindre 30 % dans cette étude. Ce diagramme de microstructure a permis de sélectionner quelques dépôts pour en évaluer l’activité photocatalytique. La dégradation totale de l’acide stéarique, utilisé comme polluant, a été obtenue en 40 minutes. Le dépôt de TiO2 avec la plus grande activité photocatalytique a été utilisée pour couplé son action à la désinfection par plasma, 4,2 Log d’abattement ont ainsi pu être atteints.The Axial Injection Torch has been used to inactivate microorganisms without thermal effect thanks to the species and UV of the plasma. In order to complete this inactivation process, TiO2 thin layers with photocatalytic properties were produced by PECVD using this same source. An analysis of the plasma by optical emission spectroscopy and the determination of the surface temperature of the substrate were carried out. The plasma was analysed with and without the titanium precursor, also with a substrate in the axis of the discharge to be as close as possible to the deposition conditions. The excitation and gas temperatures are respectively between 7000 to 9500 K and 2700 to 3700 K. These high temperatures produce heat transfer to the substrate. Depending on the operating conditions, the measured substrate surface temperatures are between 110 and 320°C. Bacterial inactivation tests by plasma were carried out on agar in order to evaluate the effect of the operating parameters of the TIA on the efficacy of the treatment. The surface temperatures measured could be linked to the microstructure diagram of the TiO2 thin layers. When the surface temperature of the substrate increases, the proportion of the rutile phase also increases up to 30% in this study. This microstructure diagram made it possible to select a few thin layers to evaluate their photocatalytic activity. The total degradation of stearic acid, used to simulate a pollutant, was reached in 40 minutes. The thin layer of TiO2 with the greatest photocatalytic activity was used to couple its action to plasma disinfection, 4.2 Log reduction could be achieved
Dispelling the Myths Behind First-author Citation Counts
Get PDFWe conducted a full-scale evaluative citation analysis study of scholars in the XML research field to explore just how different from each other author rankings resulting from different citation counting methods actually are, and to demonstrate the capability of emerging data and tools on the Web in supporting more realistic citation counting methods. Our results contest some common arguments for the continued
use of first-author citation counts in the evaluation of scholars, such as high correlations between author rankings by first-author citation counts and other citation
counting methods, and high costs of using more realistic citation counting methods that are not well-supported by the ISI databases. It is argued that increasingly available digital full text research papers make it possible for citation analysis studies to go beyond what the ISI databases have directly supported and to employ more
sophisticated methods
- …
