University of Buenos Aires
Biblioteca Digital Biblioteca Digital de la Facultad de Ciencias Exactas y Naturales de la Universidad de Buenos Aires (Biblioteca Digital FCEN-UBA)Not a member yet
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La Ménsula
No full textUna inédita experiencia interuniversitaria: A 41 años de la desaparición del Instituto de Biología Marina de Mar del Plat
Voltametría de Onda Cuadrada para estudiar la Electrodeposición de cinc en medio ácido. Zona de potenciales de control por transferencia de masa
No full textSe analizan en esta sección los procesos durante la deposición masiva. Se utilizan para éste estudio la voltametría de onda cuadrada aparte de la voltametría catódica de deposición, para determinar cómo influyen las zonas de potenciales de deposición masiva (pico c3 y densidad de corriente límite) en la calidad de los electrodepósitos. Se hace para analizar en la deposición, el efecto de variables como la velocidad de barrido, el pH y la temperatura.Fil: Mahmud, Z. Instituto Nacional de Tecnología Industrial (INTI). Procesos SuperficialesFil: Gordillo, G. Universidad de Buenos Aires (UBA). Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Departamento de Química Inorgánica, Analítica y Química FísicaFil: Ventura D'Alkaine, C. Universidade Federal de São Carlos (UFSCar
Estudio del efecto de los aniones cloruros, sulfatos y sus mezclas en la Electrodeposición de cinc en medio ácido
No full textEl objetivo de este capítulo es analizar la electrodeposición de cinc a partir de soluciones mezcla de cloruros y sulfatos en distintas proporciones, tanto en presencia como en ausencia de un aditivo. Esto permite analizar la influencia de estos aniones en dicho proceso. Se trabaja sobre mezclas [x M Cl- + y M SO42- + 0.3M Zn2+ + (x + 2 y –0.6) M NH4+] a fuerza iónica constante, desde el extremo de NH4Cl/ZnCl2 hasta el extremo (NH4)2SO4 /ZnSO4. Las soluciones de mezclas: (NH4Cl 1.6 M + ZnCl2 0,3M) y de (NH4)2SO4 1,3M + ZnSO4 0,3M) se prepararon a fuerza iónica I=2,5 M y pH=4 ajustado, con soluciones de sulfato de amonio diluido. Por otra parte, se analizan las posibles reacciones de superficie que ocurren durante la deposición de cinc a partir de la mezcla de soluciones de cloruro de cinc más cloruro de amonio y de sulfato de cinc más sulfato de amonio, mediante voltametría catódica, la técnica de deposición disolución para medir la eficiencia de la reacción, el análisis por Microscopio Electrónico de Barrido, SEM, la técnica de XPS “X ray Photoelectron Spectroscopy”, que permite reconocer elementos y su entorno en pocas monocapas en una profundidad de 20 -30 Å.Fil: Mahmud, Z. Instituto Nacional de Tecnología Industrial (INTI). Procesos SuperficialesFil: Gordillo, G. Universidad de Buenos Aires (UBA). Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Departamento de Química Inorgánica, Analítica y Química FísicaFil: Ventura D'Alkaine, C. Universidade Federal de São Carlos (UFSCar
Electrodeposición de cinc en medio ácido. Eficiencia de la reacción en la zona de potenciales de deposición masiva con control activado
No full textEn éste trabajo se utiliza la técnica de deposición voltamétrica rápida y el crecimiento potenciostático de los electrocincados. Luego la disolución de los depósitos en solución de disolución adecuada. La carga de disolución obtenida divido la carga depositada permite obtener la eficiencia de reacción. En la zona de potenciales de control activado se obtienen las mayores eficiencias porque no se produce la reacción indeseable de descomposición de agua paralela a la deposición. Por lo tanto, la energía usada es solo para deposición. Se encontró en los estudios de SEM que los depósitos a potenciales más negativos son de grano más fino en la zona de potenciales de deposición masiva con control activado. Se obtuvieron por XPS especies que fortalecen idea de la formación del complejo de Cl4Zn2-.Fil: Mahmud, Z. Instituto Nacional de Tecnología Industrial (INTI). Procesos SuperficialesFil: Gordillo, G. Universidad de Buenos Aires (UBA). Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Departamento de Química Inorgánica, Analítica y Química FísicaFil: Ventura D'Alkaine, C. Universidade Federal de São Carlos (UFSCar
QED
No full textLa melodía de los primos - Rey Pastor, un pionero - Disparen sobre el infinitoEditorial por Carlos Borches (pág 3)La música de los números primos por Juan C. Pedraza (pág 5)Encriptado RSA por Gabriela Jeronimo (pág 13)Ciencia en la cultura popular: Las cigarras y los números primos por Gabriela Jeronimo (pág 14)Una nueva demostración de la infinitud de los primos por Gonzalo Saravia (pág 16)Este Primo es una Bestia por Carlos Borches (pág 18)Ultrafinitismo. Los límites de la consistencia por Christian Espíndola (pág 20)Divagaciones de Agustín: ¿Se estudia hoy menos que antes? por Agustín Rela (pág 24)Historia: Rey Pastor y la escuela matemática argentina por Carlos Borches (pág 28)Intimidades de las Intimidades (pág 30
Electrodeposición de cinc en medio ácido. Deposición de Zinc UPD en la zona de bajos sobrepotenciales
No full textEn este trabajo, se analiza el primer pico (c1) que aparece en las voltametrías catódicas tanto en solución de electrodeposición (en presencia de Zn2+). La naturaleza del pico c1 ha sido objeto controversia. Este pico se encuentra a potenciales más positivos que el potencial reversible, Er, razón por la cual en esta zona el cinc metálico no se deposita masivamente. Diferentes autores sostienen que el mismo se genera a causa de un proceso de deposición a subpotenciales (UPD). Sin embargo, dado que la carga de una monocapa es de 440 µCcm -2, los altos valores de carga desarrollados en dicho pico generan dudas acerca de la naturaleza de los procesos involucrados en él.Fil: Mahmud, Z. Instituto Nacional de Tecnología Industrial (INTI). Procesos SuperficialesFil: Gordillo, G. Universidad de Buenos Aires (UBA). Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Departamento de Química Inorgánica, Analítica y Química FísicaFil: Ventura D'Alkaine, C. Universidade Federal de São Carlos (UFSCar
El Instituto de biología Marina de Mar del Plata, Argentina (1960-1977): Aportes a su historia
No full textEfecto del Aditivo Tiourea utilizado en el proceso de la Electrodeposición de cinc en medio ácido
No full textEn la condición inicial en que se usan cronoamperometrías para acondicionar el electrodo se encontró que las corrientes son menores con tiourea, durante todo el tiempo de la experiencia. En el pico c 1 a bajos sobrepotenciales de inicio de la voltametría, la tiourea disminuye las corrientes de pico de reducción del protón y no se encuentra zinc UPD con aditivo. En la voltametría, la tiourea retrasa el proceso de inicio de la deposición a potenciales de 35 mV en una concentración de 10 -5 M de aditivo. En la voltametrías el pico de nucleación c 2 , sin aditivo, presenta un plateau que desaparece en presencia de aditivo tiourea. En la zona de control activado, en la solución con concentraciones adecuadas de tiourea, la pendiente j vs η, aumenta notablemente en la voltametría de electrodeposición. Se observa un aumento vertiginoso de corriente con tiourea, en la zona de control activo, se explica por un aumento de la cinética de electrodeposición porque aumenta la corriente de intercambio, io, que está dado por k*C, donde k es el la constante cinética de la reacción. La eficiencia de la reacción aumenta en presencia de tiourea en concentración adecuada (aproximadamente 3x10 -5 M) como se muestra en las experiencias. Cuando comienza la zona de deposición con control activado, la deposición en presencia de aditivo, se adelanta a potenciales más positivos y la densidad de corriente j aumenta notablemente. Se discute la razón por la cual aumentan las corrientes en presencia de tiourea. De igual forma, en la zona de potenciales del pico c 3 también aumenta el valor de la densidad de corriente, j, a un potencial aproximado de -1,2 V vs calomel, con tiourea. Simultáneamente el valor de potencial de c 3 se desplaza hasta unos 20 mV más positivos, según la concentración de aditivo, que posiblemente sea por la adsorción de tiourea en el potencial inicial. En las curvas de polarización las corrientes de corrosión son más bajas en presencia de tiourea, y los potenciales se desplazan a valores más positivos, lo que significa un material más noble. Se ha encontrado por SEM que con tiourea, los depósitos cubren toda la superficie. El análisis por XPS, revela que la tiourea no se incorpora a la superficie.Fil: Mahmud, Z. Instituto Nacional de Tecnología Industrial (INTI). Procesos SuperficialesFil: Gordillo, G. Universidad de Buenos Aires (UBA). Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Departamento de Química Inorgánica, Analítica y Química FísicaFil: Ventura D'Alkaine, C. Universidade Federal de São Carlos (UFSCar